头头体育官网怎么样包括30kV、50kV、91113 2inch、4inch、68定制尺寸 如有任何需求和相关问题

当前位置:头头体育官网怎么样 > 头头体育官网怎么样 > 头头体育官网怎么样包括30kV、50kV、91113 2inch、4inch、68定制尺寸 如有任何需求和相关问题
作者: 头头体育官网怎么样|来源: http://www.buymytlds.com|栏目:头头体育官网怎么样

文章关键词:头头体育官网怎么样,电子束仪器

  电子束光刻系统 EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 、 电子束曝光系统 CABL-9000C series 30kV、50kV、90kV、110kV、130kV 2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸 纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供尖端 的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。 型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列最小线nm,欣源科技(北京)有限公司,欣源科技(北京),最小束斑直径2nm,套刻精度 20nm(mean 2σ),拼接精度 20nm(mean 2σ)。 技术参数: 1.最小线kV 3.电子束直径:小于2nm 4.套刻精度:20nm(mean 2σ) 5.拼接精度:20nm(mean 2σ) 6.加工晶圆尺寸:4-8英寸(standard),12英寸(option) 7.描电镜分辨率:小于2nm 主要特点: 1.采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪 2.出色的电子束偏转控制技术 3.采用场尺寸调制技术,电子束定位分辨率(address size)可达0.0012nm 4.采用轴对称图形书写技术,图形偏角分辨率可达0.01mrad 5.应用领域广泛,E-Beam Lithography电子束光刻系统,超高分辨率仪器仪表光刻曝光机,如微纳器件加工,Si/GaAs 兼容工艺,E-Beam Lithography电子束光刻系统,高拼接套刻精度仪器仪表光刻曝光机,E-Beam Lithography电子束光刻系统,超高分辨率仪器仪表光刻,研究用掩膜制造,纳 米加工(例如单电子器件、头头体育官网怎么样量子器件制作等),高频电子器件中的混合光刻(Mix & Match),图形线宽和图形位移测量等。 ================================== 超高分辨率电子束光刻EBL Ultrahigh Resolution EB Lithography (CABL-UH series) 纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供尖端 的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。 超高分辨率的电子束光刻CABL-UH系列的型号包括: CABL-UH90 (90keV) 、CABL-UH110 (110keV) 、CABL-UH130 (130keV) 技术参数: 加速电压:最高130keV 单段加速能力达到130keV,尽量减少电子枪的长度 超短电子枪长度,无微放电 电子束直径<1.6nm 最小线nm 双热控制,实现超稳定直写能力 欣源科技SYNERCE独家代理日本CRESTEC公司的电子束光刻系统,又称作电子束曝光、电子束直写、EBL、E-Beam Lithography等。 包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV 2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸 如有任何需求和相关问题,敬请电话或邮件垂询。

  德国MUEGGE微波电源磁控_915MHz仪器仪表-欣源科技(北京)有限公司

  法国SAIREM微波Generator_仪器仪表波导-欣源科技(北京)有限公司

  高功率射频发生器_Radio Freq仪器仪表-欣源科技(北京)有限公司

  aixACCT铁电测试仪_TF2000E电子测量仪器测试仪-欣源科技(北京)有限公司

  CRESTEC电子束_高拼接套刻精度仪器仪表曝光-欣源科技(北京)有限公司

  diaBEAM电子束焊接质量评估_aixACCT仪器仪表能量密度分布测试-欣源科技(北京)有限公司

  MEMS晶圆激光干涉仪价格_双光束仪器仪表价格-欣源科技(北京)有限公司

网友评论

我的2016年度评论盘点
还没有评论,快来抢沙发吧!